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objetivo Plan apochromat. objective ELWD 20X/0.420 (wd:20mm)
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objetivo Plan apochromat. objective PA ELWD 20X/0.420 (wd 20mm) Parfokalitätskorrektur
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objetivo 40X / 0.75, wd 0.7mm, CCIS, PL UC FL, plan, fluo, infinity, Spring
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objetivo PL S-Apo., BF, LD, plan, S-Apo, AL/DL 100x/, w.d. 0.5mm,
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Objetivo 100x/0,8 (w.d.=2mm) CCIS LM plano achromat.
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objetivo 100x/0,8 (AA=2mm), CCIS LM Plan achro. invers
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objetivo 20X / 0.50, wd 2.2mm, CCIS, PL UC FL, plan, fluo, infinity
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Objetivo, CCIS acromát. LM PL 50x/0,55 (AA=8,4 mm)
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Motic
objetivo 10X / 0.35, wd 4.2mm, CCIS, PL APO, plan, apochrom., infinity, (BA410E)
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Motic
objetivo CCIS, LM, plan, achro, BD, 100x/0.8, w.d.1.7mm (AE2000 MET)
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Motic
objetivo LM BD PL, CCIS, LM, plan, achro, BD, 50x/0.55, w.d.7.2mm (AE2000 MET)
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objetivo LM PL , CCIS, LM, plan, achro, 50x/0.55, w.d.8.4mm (AE2000 MET)
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