PSM1000
Das PSM1000 ist ein OEM-bereites Mikroskop mit bestmöglicher Abbildungsleistung bei flachen, reflektierenden Proben. Metallurgische Werkstücke wie auch Halbleiter werden durch die plan-apochromatischen LWD Objektive beeindruckend wiedergegeben. Das große Sehfeld mit aufrechtem Bild erlaubt schnelle Orientierung und einfache Manipulation. Jede Position des Objektivrevolvers ist einzeln zentrierbar. Dadurch bleiben Details bei Vergrößerungs-Wechsel perfekt „im Bilde“. Die Verwendung von optionalen Objektiven mit Parfokalitäts-Ausgleich erspart zusätzlich ein erneutes Fokussieren. Die hohe Transmission der Objektive inklusive Tubuslinsen für NUV (355nm) bis NIR (1064nm) erlaubt die Einbindung des PSM1000 in Wafer-Inspektionssysteme. Die geringe Schrittweite des Feinfokus ermöglicht feinste Einstellung der Fokusebene auch bei hohen Vergrößerungen.
Spezifikationen Standard System:
Optik-Konzept: Optik mit Transmission von NUV bis NIR
Beobachtungstubus: Trinokularer Tubus, Siedentopf-Typ
Einblickwinkel: 30º Einblickwinkel
Strahlenteilung bei Trinotubus: Schaltbar 50:50/0:100 visuell: Kameraausgang
Augenabstand: 55-75mm
Dioptrien-Ausgleich: An beiden Okularen +/- 5 dpt
Okulare: Weitfeld WF10X/24mm, mit Dioptrienausgleich
Zwischentubus: 3-fach Tubuslinsenrevolver mit 1X UV/VIS (355-532nm), 1X IR/VIS (532-1064nm), 2X
Objektiv-Revolver: 4-fach, Positionen einzeln zentrierbar
Güteklasse Objektive: Extra LWD Plan Apochromate
Objektive/Vergrößerungsbereich: Optional
Objektivgewinde: M26X0.706
Stativtyp: Optional
Fokus: Koaxialer Grob-/Feintrieb, Gängigkeit einstellbar
Schrittweite Feinfokus: 1 μm Inkrement
Verfahrbereich in Z: 50mm
Auflicht: Port für Einkopplung einer koaxialen Beleuchtung
Zubehör im Lieferumfang: Lasersicherheits-Zubehör, Distanzscheiben
Maße: LxBxH 333x218x277mm
